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湖北工業(yè)大學(xué)理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院院徽征集啟事
信息發(fā)布：征集碼頭網(wǎng)    點(diǎn)擊次數(shù)：9650     更新時(shí)間：2021-10-20    截止日期：2021-11-10
  活動(dòng)主題

  理學(xué)院|院徽設(shè)計(jì)大賽

  院徽是一個(gè)學(xué)院的形象標(biāo)志，

  它不僅代表著學(xué)院的面貌特色、

  體現(xiàn)著學(xué)院的專業(yè)風(fēng)采，

  也弘揚(yáng)湖北工業(yè)大學(xué)、

  理學(xué)院-芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院歷史傳統(tǒng)、

  塑造學(xué)院形象、

  傳遞學(xué)院文化精神、

  展現(xiàn)學(xué)院的精神風(fēng)貌和發(fā)展愿景。

  有能力的你還在等待什么？

  趕緊行動(dòng)吧！

  為了讓理院的院徽深入人心！

  讓我們大家一起！

  揮舞起手上的畫筆！

  豐厚現(xiàn)金等你來(lái)拿！

  ★

  參賽人員

  面向湖北工業(yè)大學(xué)全體師生

  海內(nèi)外校友

  社會(huì)各界熱心人士

  ★

  活動(dòng)時(shí)間

  ★

  2021年10月18日

  2021年11月30日

  活動(dòng)要求和流程

  01-內(nèi)容要求

  1.作品需符合比賽主題，能結(jié)合理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院的辦學(xué)和發(fā)展歷史，充分展現(xiàn)學(xué)院的內(nèi)在精神和文化內(nèi)涵（學(xué)校網(wǎng)站和學(xué)院網(wǎng)站可見介紹和態(tài)）。

  學(xué)校官網(wǎng)：https://www.hbut.edu.cn/index.htm

  學(xué)院官網(wǎng)：https://lxy.hbut.edu.cn/

  2.外觀要求構(gòu)思精巧，美觀大方，創(chuàng)意新穎且有時(shí)代風(fēng)范。

  3.作品富于美感和視覺沖擊力，應(yīng)遵循標(biāo)識(shí)藝術(shù)創(chuàng)作規(guī)律，符合標(biāo)識(shí)設(shè)計(jì)表達(dá)規(guī)范，便于制作紀(jì)念徽章、旗幟等各類延伸推廣應(yīng)用。

  4.所有參賽作品均需以矢量文件和高質(zhì)量JPG格式圖稿的形式同時(shí)提交，隨同作品一并提交理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院院徽設(shè)計(jì)大賽報(bào)名表（附表1）

  02-征集方式

  征集截止時(shí)間為11月10日晚上12:00。電子郵箱：1369699041 qq.com。郵件主題填寫“理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院院徽設(shè)計(jì)大賽征集”，郵件內(nèi)容將矢量文件和高質(zhì)量JPG格式圖稿以及附表1一并打包發(fā)送。報(bào)名表二維碼以下所示

  03-篩選方式

  線上線下初選（11.10-11.17）

  線上線下復(fù)選（11.17-11.24）

  最終審定（11.24-11.30）

  作品篩選初選使用專家評(píng)審，評(píng)審入圍的作品方可參加復(fù)選和審定環(huán)節(jié)。復(fù)選和審定環(huán)節(jié)使用線上、線下投票，現(xiàn)場(chǎng)答辯來(lái)計(jì)分排名，從高到低錄取，分?jǐn)?shù)百分制，各環(huán)節(jié)分?jǐn)?shù)占比為

  線上投票15%

  線下投票15%

  評(píng)委評(píng)審70%

  design competition

  大賽設(shè)置前三名和決賽入圍獎(jiǎng)，前三名證書加現(xiàn)金獎(jiǎng)勵(lì)，決賽入圍獎(jiǎng)發(fā)放證書和紀(jì)念品，獎(jiǎng)金設(shè)置如下：

  第一名800RMB（1名）

  第二名500RMB（1名）

  第三名300RMB（1名）

  注意事項(xiàng)

  1.應(yīng)征作品應(yīng)為未公開發(fā)表過(guò)的原創(chuàng)作品，不得侵犯任何第三方的合法權(quán)益。作品本身存在權(quán)利瑕疵或存在抄襲、借用等侵權(quán)行為，由作者本人承擔(dān)相關(guān)法律責(zé)任，并取消參選資格。

  2.所有入圍、錄用作品的知識(shí)產(chǎn)權(quán)和使用權(quán)均歸湖北工業(yè)大學(xué)理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院所有。學(xué)院有權(quán)對(duì)入圍、錄用作品進(jìn)行任何形式的使用、開發(fā)、修改、授權(quán)許可或保護(hù)等活動(dòng)。

  3.所有應(yīng)征作品均不退稿，請(qǐng)作者自留底稿。

  4.征集結(jié)束后，學(xué)院將組織專家對(duì)應(yīng)征作品進(jìn)行評(píng)審，經(jīng)領(lǐng)導(dǎo)審定后采用。

  5.本次征集活動(dòng)最終解釋權(quán)歸湖北工業(yè)大學(xué)理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院所有。

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  編輯▌黃佳倫

  審核▌李亞男

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